2025-09-04 14:13:29
每經AI快訊，9月4日，在第十三屆半導體設備與核心部件及材料展（CSEAC 2025）上，中微公司宣布推出六款半導體設備新產品。這些設備覆蓋等離子體刻蝕（Etch）、原子層沉積（ALD）及外延（EPI）等關鍵工藝。在此次新品發(fā)布中，中微公司推出的12英寸原子層沉積產品Preforma Uniflash®金屬柵系列，成為薄膜沉積領域的一大亮點。該系列涵蓋三大產品，能夠滿足先進邏輯與先進存儲器件在金屬柵方面的應用需求。（證券時報）
特別提醒：如果我們使用了您的圖片，請作者與本站聯(lián)系索取稿酬。如您不希望作品出現(xiàn)在本站，可聯(lián)系我們要求撤下您的作品。
歡迎關注每日經濟新聞APP
Copyright ? 2026 每日經濟新聞報社版權所有，未經許可不得轉載使用，違者必究。
廣告熱線? 北京: 010-57613265，?上海: 021-61283008，?廣州: 020-84201861，?深圳: 0755-83520159，?成都: 028-86512112
